在日前于加拿大温哥华举行的光盘技术国际会议“ODS 2003”上，东芝首次发表了刻录容量为36GB的可擦写单面双层AOD光盘。此光盘采用将两枚0.6mm厚的底板粘结在一起的结构，以夹在中间的粘接层（层间分隔膜）为界，形成各记录层。各记录层的容量为18GB。
光盘的结构如下：沿激光入射方向依次是，聚碳酸酯底板、电介质膜、界面层、取代铋的Ge-Sb-Te膜、界面层、电介质膜、银合金、散热ZnS膜、层间分隔膜、电介质膜、界面层、取代铋的Ge-Sb-Te膜、界面层、电介质膜、银合金、聚碳酸酯底板。
记录层是根据单面双层光盘的条件而设计。比如沿激光入射方向来看最外层的第0记录层，为了提高透过率，必须降低记录膜和反射膜的厚度。但是这样一来消去比就会降低，而且散热性也会下降。因此为了改善消去比，记录膜采用了取代铋的Ge-Sb-Te膜，并设计了Ta2O5界面层。散热性是通过在银合金膜下面追加ZnS膜而得以解决的。记录膜的记录前反射率比记录后高，即采用了“High to Low（由高变低）”的设计。按照这种层结构，沿着激光入射方向来看，内侧的第1记录层也把记录膜改为取代铋的Ge-Sb-Te膜，并设计了Ta2O5界面层，而且记录膜也采用了High to Low设计。
在2枚0.6mm厚的光盘底板上形成各自的记录层以后，把底板相互粘起来，即可完成单面双层光盘。粘接装置直接沿用了现有DVD光盘的设备。
对试制光盘进行了错误率测试，结果确认已达到实用水平：第0记录层数据轨道的岸部（Land）为1.1×10-5，沟部（Groove）为1.5×10-5。第1记录层的岸部为4.9×10-6，沟部为3.7×10-6。
